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大學實驗氣氛管式爐管式爐主要針對實驗室在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理，陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等 產品簡介

更新日期：2024-10-24

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￥7800

開啟式真空管式氣氛爐主要應用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產之用。具有安全可靠、操作簡單、控溫度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。

更新日期：2024-10-24

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￥8500

單溫區(qū)真空管式加熱爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30 段程序控 溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用日本三菱氧化鋁 多晶纖維材料，爐膛分為上下兩個半圓，需要急 速冷卻或換管子時，可以打開爐膛，雙層爐殼間 配有風冷系統(tǒng)，能快速升降溫，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦 企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD 實驗、真空退火用的理想產品。

更新日期：2024-10-24

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￥面議

智能高溫真空管式爐主要應用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產之用。具有安全可靠、操作簡單、控溫度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。

更新日期：2024-10-24

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￥8500

開啟式真空氣氛管式爐主要應用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產之用。具有安全可靠、操作簡單、控溫度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。

更新日期：2024-10-24

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￥8500

高溫真空氣氛管式爐加熱區(qū)域：外徑φ60*加熱區(qū)L300 工作溫度：300℃ 高溫度：1400℃ 大真空度：-0.1Mpa 密封方式：304不銹鋼KF法蘭 可能氣氛：所有惰性氣體，氮氣、氬氣、二氧化碳、水蒸氣 升溫速率：≤30℃/Min 控溫度：±1℃ 加熱元件：硅碳棒

更新日期：2024-10-24

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￥9800